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發(fā)布時間:2024-12-28 04:24:34   來源:廣東廣盛遠醫(yī)藥有限公司   閱覽次數(shù):8次   

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時間后,真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料,必須要做到嚴格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝,操作要戴手套、腳套等。6、適當?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度,有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術上明確允許的較da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動性低、地面干凈,如果是裸露的水泥地,需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機的主要應用。山西射頻離子源價格

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【真空鍍膜機清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源,在其相對于待清洗的表面加負偏壓可以實現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及某些碳氫化合物的去除。清洗效果取決于電極材料、幾何形狀及其與表面的關系。即取決于單位表面積上的離子數(shù)和離子能量,從而取決于有效電功率。在真空室中充入適當分壓力的惰性氣體(典型的如Ar氣),可以利用兩個適當?shù)碾姌O間的低壓下的輝光放電產(chǎn)生的離子轟擊來達到清洗的目的。該方法中,惰性氣體被離化并轟擊真空室內(nèi)壁、真空室內(nèi)的其它結(jié)構件及被鍍基片,它可以使某些真空系統(tǒng)免除被高溫烘烤。如果在充入的氣體中加入氧氣,對某些碳氫化合物可以獲得更好的清洗效果。因為氧氣可以使某些碳氫化合物氧化生成易揮發(fā)性氣體而容易被真空系統(tǒng)排除。不銹鋼高真空和超高真空容器表面上雜質(zhì)的主要成分是碳和碳氫化合物。陜西光學薄膜射頻離子源真空鍍膜機的操作視頻。

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【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導電與否,可分為導電真空鍍膜(VM)和不導電真空鍍膜(NCVM)兩種。VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理,其表面效果與水電鍍相媲美,靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。NCVM:具有金屬質(zhì)感、透明,但不導電,一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理,其表面效果為水電鍍不可取代,靶材一般為銦、銦錫。三、擴散泵連續(xù)使用6個月以上,抽的速度會顯然變慢,當操作不當應拆去聯(lián)結(jié)水管,卸下電爐盤,將一級噴嘴擰出,先用汽油將泵腔及泵膽清洗一遍,再用洗衣粉兌水清洗一遍,然后用清水徹底清洗干凈,待水份揮發(fā)干以后,裝好泵膽,加入新擴散泵油,并裝回機體,接好水管,裝好電爐盤,便可以重新開機。

【真空鍍膜機之卷繞機構設計中應考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度,它是卷繞機構的一個主要技術指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min,現(xiàn)在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產(chǎn)品中,其卷繞速度已達到300m/min,德國L.H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min,可見隨著鍍膜技術的發(fā)展,卷繞速度有待提高。②帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要,因為只有卷繞機構保證帶狀基材的線速恒定,才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜(如電容器膜)尤為重要。③帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高,帶狀基材在卷繞鍍膜過程中,起褶和發(fā)生偏斜,嚴重時會造成基材的斷裂,使生產(chǎn)中斷,既影響生產(chǎn)效率,又浪費材料。因此,在卷繞機構的設計中應充分考慮這一問題。真空鍍膜機日常怎么維護?

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【真空鍍膜機之卷繞式鍍膜機】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領域中,可鍍光學、電學、電磁、導電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%~2%,紙含水量更da,一般為5%-7%,經(jīng)涂布烘干后,含水量仍有3%。由于基材含水量高,故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構應用普遍,其優(yōu)點是:①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材,并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小,使放出來的氣體不易進入蒸鍍室中;②單室結(jié)構必須配置較da的排氣系統(tǒng)才能保障蒸鍍時的工作壓力,而雙室結(jié)構中的蒸鍍室氣體量較小,可配小型抽氣機組,使設備成本降低,并節(jié)約能源;③卷繞室與蒸鍍室分別抽氣,可縮短抽氣時間。卷繞式真空鍍膜機在結(jié)構上除了有一般鍍膜機所有的結(jié)構外,必須有一個為了實現(xiàn)連續(xù)鍍膜而設置的卷繞機構。由于被鍍基體是紙或塑料,放氣量較da,因此,在真空室的結(jié)構上又有單室和多室之分。真空鍍膜機廠家排名。廣東光學薄膜射頻離子源廠家

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【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機械、物理和化學性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機械打磨,化學處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處理就是對工件表面進行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。常用表面處理的工藝有:真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。山西射頻離子源價格

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